|
Improvement of metal gate/high-k dielectric CMOSFETs characteristics by neutral beam etching of metal gate |
|
|
|
Titel: |
Improvement of metal gate/high-k dielectric CMOSFETs characteristics by neutral beam etching of metal gate |
Auteur: |
Min, K.S. Park, C. Kang, C.Y. Park, C.S. Park, B.J. Kim, Y.W. Lee, B.H. Lee, Jack C. Bersuker, G. Kirsch, P. Jammy, R. Yeom, G.Y. |
Verschenen in: |
Solid-state electronics |
Paginering: |
Jaargang 86 (2013) nr. C pagina's 4 p. |
Jaar: |
2013 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|