|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 43 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparison of positive and negative bias-temperature instability on MOSFETs with HfO2/LaO x and HfO2/AlO x dielectric stacks |
| Auteur: |
Lu, Chun-Chang Chang-Liao, Kuei-Shu Tsao, Che-Hao Wang, Tien-Ko |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 54 (2010) nr. 11 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 43 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |