|
Low temperature MOSFET technology with Schottky barrier source/drain, high-K gate dielectric and metal gate electrode |
|
|
|
Titel: |
Low temperature MOSFET technology with Schottky barrier source/drain, high-K gate dielectric and metal gate electrode |
Auteur: |
Zhu, Shiyang Yu, H.Y. Chen, J.D. Whang, S.J. Chen, J.H. Shen, Chen Zhu, Chunxiang Lee, S.J. Li, M.F. Chan, D.S.H. Yoo, W.J. Du, Anyan Tung, C.H. Singh, Jagar Chin, Albert Kwong, D.L. |
Verschenen in: |
Solid-state electronics |
Paginering: |
Jaargang 48 (2004) nr. 10-11 pagina's 6 p. |
Jaar: |
2004 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|