|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 26 gevonden artikelen
| Titel: |
Development of advanced plasma process with an optical emission spectroscopy-based end-point technique for etching of AlGaAs over GaAs in manufacture of heterojunction bipolar transistors |
| Auteur: |
Lee, J.W. Jeon, M.H. Cho, G.S. Yim, H.C. Chang, S.K. Kim, K.K. Devre, M. Johnson, D. Sasserath, J.N. Pearton, S.J. |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 46 (2002) nr. 5 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 26 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |