Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 13 van 35 gevonden artikelen
 
 
  Conditions of ion implantation into thin amorphous Si gate layers for suppressing threshold voltage shift
 
 
Titel: Conditions of ion implantation into thin amorphous Si gate layers for suppressing threshold voltage shift
Auteur: Suzuki, Kunihiro
Sudo, Ritsuo
Verschenen in: Solid-state electronics
Paginering: Jaargang 44 (2000) nr. 6 pagina's 5 p.
Jaar: 2000
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Science Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 13 van 35 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland