Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 6 van 22 gevonden artikelen
 
 
  Base contact resistance limits to lateral scaling of fully self-aligned double mesa SiGe-HBTs
 
 
Titel: Base contact resistance limits to lateral scaling of fully self-aligned double mesa SiGe-HBTs
Auteur: Behammer, D
Wieczorek, K
Albers, J.N
Friedrich, S
Schreiber, H.-U
Bosch, B.G
Verschenen in: Solid-state electronics
Paginering: Jaargang 41 (1997) nr. 8 pagina's 6 p.
Jaar: 1997
Inhoud:
Uitgever: Published by Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 6 van 22 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland