|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 29 gevonden artikelen
| Titel: |
Electrical properties of 6.3 nm RF oxygen plasma oxide grown near room temperature with in situ dry cleaning of Si surface |
| Auteur: |
Chanana, R.K Upadhyay, H.N Dwivedi, R Srivastava, S.K |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 38 (1995) nr. 5 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
1995 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 29 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |