|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Analysis of ferroelectric properties of ALD-Hf0.5Zr0.5O2 thin films according to oxygen sources |
| Auteur: |
Lee, Seungbin Jung, Yong Chan Park, Hye Ryeon Park, Seongbin Kang, Jongmug Jeong, Juntak Choi, Yeseo Kim, Jin-Hyun Mohan, Jaidah Kim, Harrison Sejoon Kim, Jiyoung Kim, Si Joon |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 216 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |