|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
Temperature-dependent source access resistance in AlGaN/AlN/GaN HFETs with different ratios of gate-source distance to gate-drain distance |
| Auteur: |
Liu, Yan Wang, Tao Huang, Changyang Chen, Simin |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 193 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 14 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |