|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 9 gevonden artikelen
| Titel: |
Phenomenological modeling of low-bias sulfur hexafluoride plasma etching of silicon |
| Auteur: |
Aguinsky, Luiz Felipe Rodrigues, Frâncio Wachter, Georg Trupke, Michael Schmid, Ulrich Hössinger, Andreas Weinbub, Josef |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 191 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Author(s) |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 9 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |