|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 35 gevonden artikelen
| Titel: |
High-quality remote plasma enhanced atomic layer deposition of aluminum oxide thin films for nanoelectronics applications |
| Auteur: |
Khosla, Robin Schwarz, Daniel Funk, Hannes S. Guguieva, Kateryna Schulze, Jörg |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 185 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 35 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |