|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Si bilayer tunnel field-effect transistor structure realized using tilted ion-implantation technique |
| Auteur: |
Kato, Kimihiko Asai, Hidehiro Fukuda, Koichi Mori, Takahiro Morita, Yukinori |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 180 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |