|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Analysis and modeling of wafer-level process variability in 28 nm FD-SOI using split C-V measurements |
| Auteur: |
Pradeep, Krishna Poiroux, Thierry Scheer, Patrick Juge, André Gouget, Gilles Ghibaudo, Gérard |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 145 (2018) nr. C pagina's 19-28 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 10 gevonden artikelen
| volgende >> |