|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Process optimizations to recessed e-SiGe source/drain for performance enhancement in 22nm all-last high-k/metal-gate pMOSFETs |
| Auteur: |
Qin, Changliang Wang, Guilei Hong, Peizhen Liu, Jinbiao Yin, Huaxiang Yin, Haizhou Ma, Xiaolong Cui, Hushan Lu, Yihong Meng, Lingkuan Xiang, Jinjuan Zhong, Huicai Zhu, Huilong Xu, Qiuxia Li, Junfeng Yan, Jian Zhao, Chao Radamson, Henry H. |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 123 (2016) nr. C pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |