Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 13 van 17 gevonden artikelen
 
 
  Optimization of ISBD embedded SiGe layers to prevent delamination process for MOSFET applications
 
 
Titel: Optimization of ISBD embedded SiGe layers to prevent delamination process for MOSFET applications
Auteur: Wasyluk, Joanna
Ge, Yang
Wurster, Kai
Lenski, Markus
Reichel, Carsten
Verschenen in: Solid-state electronics
Paginering: Jaargang 110 (2015) nr. C pagina's 6 p.
Jaar: 2015
Inhoud:
Uitgever: Published by Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 13 van 17 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland