|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 26 van 37 gevonden artikelen
| Titel: |
Screening of electroplating additive for improving throwing power of copper pyrophosphate bath via molecular dynamics simulation |
| Auteur: |
Li, Qingyang Hu, Jiaping Zhang, Jinqiu Yang, Peixia Hu, Yidong An, Maozhong |
| Verschenen in: |
Chemical physics letters |
| Paginering: | Jaargang 757 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 26 van 37 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |