|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Thermodynamic study of the chemical vapor deposition in the SiCl3CH3–NH3–H2 system |
| Auteur: |
Ren, Haitao Zhang, Litong Su, Kehe Zeng, Qingfeng Guan, Kang Cheng, Laifei |
| Verschenen in: |
Chemical physics letters |
| Paginering: | Jaargang 623 (2015) nr. C pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |