|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 42 van 47 gevonden artikelen
| Titel: |
The initial mechanisms of Al2O3 atomic layer deposition on OH/Si(100)-2×1 surface by tri-methylaluminum and water |
| Auteur: |
Ghosh, Manik Kumer Choi, Cheol Ho |
| Verschenen in: |
Chemical physics letters |
| Paginering: | Jaargang 426 (2006) nr. 4-6 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 42 van 47 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |