|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 21 gevonden artikelen
| Titel: |
Low temperature adsorption and reaction of NO on GaAs(110) |
| Auteur: |
Kern, Klaus Chabal, Yves Higashi, Gregg Vom Felde, Andreas Cardillo, Mark |
| Verschenen in: |
Chemical physics letters |
| Paginering: | Jaargang 168 (1990) nr. 2 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1990 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 21 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |