|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 19 gevonden artikelen
| Titel: |
On the primary process in plasma-chemical and photochemical vapor deposition from silane: An ab initio study of unimolecular decomposition of SiH4 in the lowest triplet state |
| Auteur: |
Tsuda, Minoru Oikawa, Setsuko Nagayama, Kiyoshi |
| Verschenen in: |
Chemical physics letters |
| Paginering: | Jaargang 118 (1985) nr. 5 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1985 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 19 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |