|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 254 van 339 gevonden artikelen
| Titel: |
Primary particle and agglomerate size measurement in chemical mechanical polishing (CMP) slurry using electrospray technique |
| Auteur: |
Yoo, Seong-Ho Woo, Keung-Shan Liu, Benjamin Y.H. |
| Verschenen in: |
Journal of aerosol science |
| Paginering: | Jaargang 29 (1998) nr. S2 pagina's 2 p. |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 254 van 339 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |