|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 102 gevonden artikelen
| Titel: |
Chemical vapor deposition of titanium dioxide thin films on quartz silicon and porous ceramic (silica/alumina) substrates |
| Auteur: |
Huang, Shu-Chuan Lin, Ton-Fong Lu, Shih-Yuan Chou, Kan-Sen |
| Verschenen in: |
Journal of aerosol science |
| Paginering: | Jaargang 29 (1998) nr. 1-2 pagina's 1 p. |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 102 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |