|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Photoresists comparative analysis using soft X-ray synchrotron radiation and time-of-flight mass spectrometry |
| Auteur: |
Mendes, L.A.V. Avila, L.F. Menezes, J.W. Pinho, R.R. Lima, C.R.A. Cescato, L. Rocco, M.L.M. |
| Verschenen in: |
European polymer journal |
| Paginering: | Jaargang 45 (2009) nr. 12 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |