|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
Electrochemical impedance characteristics of Ta/Cu contact regions in polishing slurries used for chemical mechanical planarization of Ta and Cu: considerations of galvanic corrosion |
| Auteur: |
Assiongbon, K.A. Emery, S.B. Gorantla, V.R.K. Babu, S.V. Roy, D. |
| Verschenen in: |
Corrosion science |
| Paginering: | Jaargang 48 (2006) nr. 2 pagina's 17 p. |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |