|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 77 van 89 gevonden artikelen
| Titel: |
Suppression of resist contamination during photolithography on carbon nanomaterials by a sacrificial layer |
| Auteur: |
Lee, Shih-Wei Muoth, Matthias Helbling, Thomas Mattmann, Moritz Hierold, Christofer |
| Verschenen in: |
Carbon |
| Paginering: | Jaargang 66 (2014) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2014 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 77 van 89 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |