|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
A study on structural and electrical properties of low dielectric constant SiOC(–H) thin films deposited via PECVD |
| Auteur: |
Navamathavan, R. Nirmala, R. Kim, Chang Young Lee, Cheul-Ro Choi, Chi Kyu |
| Verschenen in: |
Journal of physics and chemistry of solids |
| Paginering: | Jaargang 73 (2012) nr. 5 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 17 gevonden artikelen
| volgende >> |