Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 2 van 19 gevonden artikelen
 
 
  Chemical vapor deposition precursor chemistry. 5. The photolytic laser deposition of aluminum thin films by chemical vapor deposition
 
 
Titel: Chemical vapor deposition precursor chemistry. 5. The photolytic laser deposition of aluminum thin films by chemical vapor deposition
Auteur: Glass Jr, John A.
Hwang, Seong-Don
Datta, Saswatti
Robertson, Brian
Spencer, James T.
Verschenen in: Journal of physics and chemistry of solids
Paginering: Jaargang 57 (1996) nr. 5 pagina's 8 p.
Jaar: 1996
Inhoud:
Uitgever: Published by Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 2 van 19 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland