|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 37 gevonden artikelen
| Titel: |
Aerosol formation by rapid nucleation during the preparation of SiO2 thin films from SiCl4 and O2 gases by CVD process |
| Auteur: |
Okuyama, Kikuo Huang, David Seinfeld, John H. Tani, Naoyuki Kousaka, Yasuo |
| Verschenen in: |
Chemical engineering science |
| Paginering: | Jaargang 46 (1991) nr. 7 pagina's 16 p. |
| Jaar: |
1991 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 37 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |