|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 62 gevonden artikelen
| Titel: |
A systematic investigation and statistical analysis of thermal Atomic Layer Deposition (ALD) process parameters on TiO2 thin film deposition rate using designed experiments |
| Auteur: |
Pan, Dongqing |
| Verschenen in: |
Chemical engineering science |
| Paginering: | Jaargang 313 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 62 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |