|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 43 van 44 gevonden artikelen
| Titel: |
The effect of ultrathin ALD films on the oxidation kinetics of SiC in high-temperature steam |
| Auteur: |
Hoskins, Amanda L. Gossett, Tyler A. Musgrave, Charles B. Weimer, Alan W. |
| Verschenen in: |
Chemical engineering science |
| Paginering: | Jaargang 201 (2019) nr. C pagina's 230-236 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 43 van 44 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |