|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of preparation variables on the deposition rate and physicochemical properties of hydrous ruthenium oxide for electrochemical capacitors |
| Auteur: |
Hu, Chi-Chang Huang, Yao-Huang |
| Verschenen in: |
Electrochimica acta |
| Paginering: | Jaargang 46 (2001) nr. 22 pagina's 14 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |