|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
The influence of the band edge position upon the reduction kinetics and the etching behaviour at the GaP-Fe(CN)3− 6 interface |
| Auteur: |
Goossens, H.H. Vermeir, I.E. Vanden Kerchove, F. Gomes, W.P. |
| Verschenen in: |
Electrochimica acta |
| Paginering: | Jaargang 35 (1990) nr. 9 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
1990 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |