|
Self-purification model for metal-assisted chemical etching of metallurgical silicon |
|
|
|
Titel: |
Self-purification model for metal-assisted chemical etching of metallurgical silicon |
Auteur: |
Li, Xiaopeng Xiao, Yanjun Yan, Chenglin Zhou, Keya Miclea, Paul-Tiberiu Meyer, Sylke Schweizer, Stefan L. Sprafke, Alexander Lee, Jung-Ho Wehrspohn, Ralf B. |
Verschenen in: |
Electrochimica acta |
Paginering: |
Jaargang 138 (2014) nr. C pagina's 5 p. |
Jaar: |
2014 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|