|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 48 van 91 gevonden artikelen
| Titel: |
Mechanism and dissolution rates of anodic oxide films on silicon |
| Auteur: |
Liu, D.Q. Blackwood, D.J. |
| Verschenen in: |
Electrochimica acta |
| Paginering: | Jaargang 105 (2013) nr. C pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 48 van 91 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |