|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 38 van 47 gevonden artikelen
| Titel: |
PZT thin films by multiple target reactive sputtering |
| Auteur: |
Toyama, Motoo |
| Verschenen in: |
Integrated ferroelectrics |
| Paginering: | Jaargang 4 (1994) nr. 4 pagina's 341-348 |
| Jaar: |
1994-06-01 |
| Inhoud: |
Lead zirconate titanate thin films have been deposited by reactive sputtering using an independently RF-supplied three-target (Pb, Zr, Ti) system at a substrate temperature of 615d`C. The lead content depended greatly on the input rf power at the Ti target, the highest power among the three targets, indicating resputtering. Remanent polarization (Pr) was 26.6 μC/cm2 for a PZT film of 3200 Å thickness. Dependence of etching rate of PZT and Pt on incidence angle of the Ar ion beam in ion milling was investigated to optimize selectivity. |
| Uitgever: |
Taylor & Francis |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 38 van 47 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |