|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 56 van 57 gevonden artikelen
| Titel: |
Use of plasma impedance monitoring for the determination of SF6 reactive ion etch process end points in a SiO2/Si system |
| Auteur: |
Dewan, M. N. A. McNally, P. J. Perova, T. Herbert, P. A. F. |
| Verschenen in: |
Materials research innovations |
| Paginering: | Jaargang 5 (2001) nr. 2 pagina's 107-116 |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 56 van 57 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |