|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Isotropic Plasma Etching of SiO2 Films |
| Auteur: |
Kovalevskii, A. A. Malyshev, V. S. Tsybul'skii, V. V. Sorokin, V. M. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 31 (2002) nr. 5 pagina's 290-294 |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |