|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 33 van 52 gevonden artikelen
| Titel: |
Optical examination of high contrast grating fabricated by focused-ion beam etching |
| Auteur: |
Urbańczyk, Dominika Wójcik-Jedlińska, Anna Muszalski, Jan Łaszcz, Adam Płuska, Mariusz Gębski, Marcin Czyszanowski, Tomasz Czerwinski, Andrzej Bugajski, Maciej |
| Verschenen in: |
Optical and quantum electronics |
| Paginering: | Jaargang 48 (2016) nr. 4 pagina's 1-9 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 33 van 52 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |