|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 104 gevonden artikelen
| Titel: |
Behavior of Boron Implanted in Semiconductor Si |
| Auteur: |
T. Izumikawa K. Matsuta M. Tanigaki T. Miyake K. Sato M. Fukuda S. Y. Zhu T. Minamisono |
| Verschenen in: |
Hyperfine interactions |
| Paginering: | Jaargang 136 (2001) nr. 3 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Dordrecht, The Netherlands |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 104 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |