|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 35 gevonden artikelen
| Titel: |
Elemental diffusion study of Ge/Al2O3 and Ge/AlN/Al2O3 interfaces upon post deposition annealing |
| Auteur: |
Zhu, Yunna Wang, Xinglu Liu, Chen Wang, Tao Chen, Hongyan Wang, Wei-Hua Cheng, Yahui Wang, Weichao Wang, Jiaou Wang, Shengkai Cho, Kyeongjae Liu, Hui Lu, Hongliang Dong, Hong |
| Verschenen in: |
Surfaces and interfaces |
| Paginering: | Jaargang 9 (2017) nr. C pagina's 51-57 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 35 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |