|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 121 gevonden artikelen
| Titel: |
A Simple Photomask with Photoresist Mask Layer for Ultraviolet-Photolithography and Its Application for Selectively Photochemical Surface Modification of Polymers |
| Auteur: |
Yong, Kong Heng-Wu, Chen Xiao, Yun Zhen-Xia, Hao Zhao-Lun, Fang |
| Verschenen in: |
Chinese journal of analytical chemistry |
| Paginering: | Jaargang 35 (2007) nr. 5 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 121 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |