|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 38 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic-level stress calculation and surface roughness of film deposition process using molecular dynamics simulation |
| Auteur: |
Hong, Zheng-Han Hwang, Shun-Fa Fang, Te-Hua |
| Verschenen in: |
Computational materials science |
| Paginering: | Jaargang 48 (2010) nr. 3 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 38 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |