|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
Chemical photoallergy: photobiochemical mechanisms, classification, and risk assessments |
| Auteur: |
Onoue, Satomi Seto, Yoshiki Sato, Hideyuki Nishida, Hayato Hirota, Morihiko Ashikaga, Takao Api, Anne Marie Basketter, David Tokura, Yoshiki |
| Verschenen in: |
Journal of dermatological science |
| Paginering: | Jaargang 85 (2017) nr. 1 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 14 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |