Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 24 van 82 gevonden artikelen
 
 
  Effect of halogen additives on the stability of a-Si:H films deposited at a high-growth rate
 
 
Titel: Effect of halogen additives on the stability of a-Si:H films deposited at a high-growth rate
Auteur: Nishimoto, Tomonori
Takagi, Tomoko
Kondo, Michio
Matsuda, Akihisa
Verschenen in: Solar energy materials and solar cells
Paginering: Jaargang 66 (2001) nr. 1-4 pagina's 7 p.
Jaar: 2001
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Science B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 24 van 82 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland