|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 403 van 913 gevonden artikelen
| Titel: |
High-quality narrow gap (∼1.52eV) a-Si:H with improved stability fabricated by excited inert gas treatment |
| Auteur: |
Sato, H Fukutani, K Futako, W Kamiya, T Fortmann, C.M Shimizu, I |
| Verschenen in: |
Solar energy materials and solar cells |
| Paginering: | Jaargang 66 (2001) nr. 1-4 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 403 van 913 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |