|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 90 van 180 gevonden artikelen
| Titel: |
High-pressure condition of SiH4+Ar+H2 plasma for deposition of hydrogenated nanocrystalline silicon film |
| Auteur: |
Parashar, A. Kumar, Sushil Dixit, P.N. Gope, Jhuma Rauthan, C.M.S. Hashmi, S.A. |
| Verschenen in: |
Solar energy materials and solar cells |
| Paginering: | Jaargang 92 (2008) nr. 10 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 90 van 180 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |