|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 7 gevonden artikelen
| Titel: |
An efficient approach for atomic-scale polishing of single-crystal silicon via plasma-based atom-selective etching |
| Auteur: |
Fang, Zhidong Zhang, Yi Li, Rulin Liang, Yanan Deng, Hui |
| Verschenen in: |
International journal of machine tools & manufacture |
| Paginering: | Jaargang 159 () nr. PB pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 7 gevonden artikelen
| volgende >> |