|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 272 gevonden artikelen
| Titel: |
An X-ray photoelectron study of the dependence of HF concentration on an etched silicon surface |
| Auteur: |
Benny, E.T.Paul Majhi, J. |
| Verschenen in: |
Journal of electron spectroscopy and related phenomena |
| Paginering: | Jaargang 58 (1992) nr. 4 pagina's 10 p. |
| Jaar: |
1992 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 272 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |