|
Recent progress in photoemission microscopy with emphasis on chemical and magnetic sensitivity |
|
|
|
Titel: |
Recent progress in photoemission microscopy with emphasis on chemical and magnetic sensitivity |
Auteur: |
Swiech, W Fecher, G.H Ziethen, Ch Schmidt, O Schönhense, G Grzelakowski, K M. Schneider, C Frömter, R Oepen, H.P Kirschner, J |
Verschenen in: |
Journal of electron spectroscopy and related phenomena |
Paginering: |
Jaargang 84 (1997) nr. 1-3 pagina's 18 p. |
Jaar: |
1997 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|