|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Analysis of the depth profile of Fe-Si buried layers in Fe+-implanted Si wafer by soft X-ray emission spectroscopy |
| Auteur: |
Galakhov, V.R. Kurmaev, E.Z. Shamin, S.N. Elokhina, L.V. Yarmoshenko, Yu.M. Bukharaev, A.A. |
| Verschenen in: |
Applied surface science |
| Paginering: | Jaargang 72 (1993) nr. 1 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1993 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |